【半導體微影製程光學】光刻機投影鏡頭光學設計培訓班
台積電已著手2奈米技術研發，預期會持續採用極紫外光（EUV）微影技術。
【半導體微影製程光學】光刻機投影鏡頭光學設計培訓班.晶圓代工龍頭「台積電」2奈米製程將落腳新竹，另外擴產建廠需求大增，整體將帶動半導體設備供應鏈的產業需求。台積電前景看好，在2020年力拚招募8千名人才，為史上最大規模徵才，未來因應3奈米及2奈米製程的產業需求，相信半導體產業將會持續擴大徵才需求。
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| 課程特色 晶圓代工龍頭「台積電」2奈米製程將落腳新竹，另外擴產建廠需求大增，整體將帶動半導體設備供應鏈的產業需求。台積電前景看好，在2020年力拚招募8千名人才，為史上最大規模徵才，未來因應3奈米及2奈米製程的產業需求，相信半導體產業將會持續擴大徵才需求。 台積電已著手2奈米技術研發，預期會持續採用極紫外光（EUV）微影技術。半導體微影製程是半導體產業的核心技術，其基本組成為：曝光光源、照明系統、光照、投影鏡頭系統、晶圓載台等子系統。本課程將介紹光學微影製程中最重要的投影物鏡子系統，採用英國「帝國理工學院」資深講師Kidger : Intermediate Lens Design為參考教材，學習在職人士所需之進階光學設計，歡迎想投入半導體產業及精密光學設計職務的工程師參與培訓。 |
| 課程目標 瞭解光學微影製程中最重要的投影物鏡子系統之組成與光學設計概念。 課程對象 半導體產業及精密光學產業之技術研發人員、專案管理人員或研發主管。 |
| 課程大綱 ●光刻機技術發展歷程 ●Dyson, Offner 光刻機物鏡態樣 ●同時消除「球差、彗差」的條件 ●為什麼要使用遠心Projection Lens ●縮小4倍投影鏡頭的構成 ●半導體的投影鏡頭爲什麼都有腰身？ ●全「球面」Dioptric折射光刻機物鏡性能指標 ●使用「非球面」光刻機物鏡性能解析 ●Catadioptric折反射式光刻機物鏡性能解析 ●Catoptric 反射式光刻機鏡頭性能解析 |
講師簡介林世穆 講師
現職：
瑞光科技顧問有限公司 資深顧問
學歷：
英國雷丁大學 物理系應用光學組博士
英國倫敦大學 帝國理工學院物理系應用光學組碩士
經歷：
國立台北科技大學光電工程系專任副教授
專長：
光學鏡頭設計、光學系統設計、ZEMAX教學
課程資訊主辦單位：工研院產業學院
舉辦日期：110年4月8~9日（四、五），上午9:00∼12:00、下午13:00∼16:00，共12小時
舉辦地點：工研院光復院區1館(詳細地點請以上課通知為準)
課程費用：(含稅、午餐、講義)
■ 每人 10,500元
■ 110/3/25(含)前報名享優惠價，每人 9,500元
■ 同公司2人(含)團報優惠價，每人 9,500元
■ 工研人享優惠價 9,500元
報名方式1.線上報名 : 點選課程頁面上方之「線上報名」按鈕，填寫報名資訊即可。亦可直接點選報名網址: https://wlsms.itri.org.tw/ClientSignUp/Index.aspx?ActGUID=A7CF15B24A2.傳真報名 : 請將報名表傳真至(03)5750690 黃小姐(傳真後請來電確認，以保障報名權益)。 3.電郵報名 : 洽黃小姐(03-5732034；E-mail：itri535579@itri.org.tw)、王先生(03-5732774；E-mail：joseph_wang@itri.org.tw)。 註：報名後待確定開課時，課務人員會再通知學員進行繳款及提供課程詳細地點等課務資訊。 注意事項■ 為確保您的上課權益，報名後若未收到任何回覆，敬請來電洽詢方完成報名。
■ 若您不克前來，請於開課三日前告知，以利行政作業進行。
■ 若原報名者因故不克參加，但欲更換他人參加，敬請於開課前二日通知。
■ 學員於開訓前退訓者，將依其申請退還所繳上課費用90％，另於培訓期間若因個人因素無法繼續參與課程，將依上課未逾總時數1/3，退還所繳上課費用之50％，上課逾總時數1/3，則不退費。
■ 為尊重講師之智慧財產權，恕無法提供課程講義電子檔。
附件 |
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簡介
產業學院緣起
依據行政院「挑戰2008：國家發展重點計畫」下之「國際創新研發基地」與「產業高值化」兩計畫，首重產業科技人才的效能。
•911216經科字第09103373120號函：經濟部將本院籌設工研院產業學院之工作，列為因應產業結構轉型，提 ... more
